De RCA-reiniging (RCA clean) is een reeks standaardreinigingen om halfgeleiderchips schoon te maken. Het doel is om organische stoffen (1), oxidelagen (2) en ionische contaminanten (3) te verwijderen.
Reinigingsprocedure standard cleaning procedure step a (sc1): 1:1:5-verhouding NH4OH + H2O2 + H2O bij 75°C gedurende 10 min. Deze procedure zorgt echter voor een zekere oxidevorming (1 nm SiO2) en enige metallische (Fe) verontreiniging, die in de volgende stappen verwijderd zal worden. Tussenin spoelen in gedestilleerd water in een ultrasoon reinigingsbad. standard cleaning procedure step b: 1:50-verhouding HF + H2O 25°C gedurende enkele minuten. Deze stap verwijdert alle SiO2 en enige ionische contaminanten. Tussenin spoelen in gedestilleerd water in een ultrasoon reinigingsbad. standard cleaning procedure step c (sc2): 1:1:6-verhouding HCl + H2O2 + H2O bij 75°C gedurende 10 min. De laatste stap verwijdert de laatste sporen metallische en ionische vervuiling. Achteraf spoelen in gedestilleerd water in een ultrasoon reinigingsbad.
Categorie:Materiaalkunde