thumb|Vergelijking van positieve en negatieve fotoresist
Een fotoresist of fotolak is een materiaal dat onder invloed van UV-licht verandert: Een negatief resist (NR) wordt hard door licht. De delen die zich achter het belichtingsmasker bevonden worden door de ontwikkelvloeistof weggespoeld. Een positief resist (PR) wordt juist oplosbaar onder invloed van licht. De afgedekte delen blijven na het spoelen over.
Categorie:Materiaal Categorie:Licht